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NewTek Gasは、半導体製造環境向けに特別に設計された最先端のPSA（圧力スイング吸着）酸素生成システムを提示します。このモジュラーソリューションは、5-3000nm³/hからの流量で99.5％の超高純度酸素を提供し、クリーンルーム操作にインテリジェントな統合機能を備えています。
コアの技術的利点
Dual-column 13X molecular sieve system achieves >99.999％O₂純度
±0。リアルタイムレーザーガス分析による5％濃度の安定性
0。1μmマルチステージろ過（HEPA+ULPA）がISOクラス3のコンプライアンスを保証します
- 従来のシステムよりも30％低い消費電力
- 熱回収システムは、ファブ環境での熱負荷を減らします
- <65dB(A) noise level with acoustic enclosure option
スケーラブルなスキッドに取り付けられた設計は、20％-200％容量拡張をサポートします
空気圧縮ユニット（オイルフリースクロールテクノロジー）
浄化塔（自動TSA湿気除去）
スマートコントロールキャビネット（SECS/GEMプロトコルを備えたPLC+HMI）
半導体プロセスアプリケーション
✔熱酸化
酸化ゲートの成長のための精度供給（2-200Å厚さ制御）
✔乾燥エッチング
ナノスケールパターニングのためのプラズマ安定ガス供給
✔CVDチャンバーパージ
粒子汚染予防のための超乾燥酸素
✔ウェーハアニーリング
ドーパント活性化のための高純度の大気制御
スマート監視システム
リアルタイムの不純物監視（PPBレベルの検出）
AIアルゴリズムによる予測メンテナンス（98％の精度）
IIOTプラットフォームを介したリモート診断（OPC UA/MtConnect）
Semi f 5-0202クリーンルームガス標準
CE/UL/ETL電気安全性認定
ISO 14644-1クラス3クリーンルーム互換性
私たちは提供します
▲ グローバルテクニカルネットワーク：24時間年中無休の多言語サポート<4hr response time
▲ 生涯最適化プログラム：年間効率監査および分子用ふるい交換サービス（1-年保証）
▲カスタムソリューション：AMHS/MMCシステムとのカスタマイズされた統合
およびガス回収システムの設計
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